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在同位鍍汞條件下玻碳電極制作一段時(shí)間出現(xiàn)的情況

更新時(shí)間:2020-03-25瀏覽:1487次

    玻碳電極不僅具有磁性,且電極檢測(cè)表面的中心磁力強(qiáng)于周邊磁力,磁性強(qiáng)度穩(wěn)定,能吸附磁性微/納米材料顆粒于檢測(cè)表面。此外,該電極磁力大小適中,電極再生處理方便、耐用。

  玻碳電極是惰性電極,所以在使用鍍掃描材料就是掃描電極,如鍍汞,銅,金就是汞膜,銅膜,金膜電極。陽(yáng)極溶出鍍汞和鍍金,玻碳鍍汞有兩種:
  第1種為同位鍍汞,即在被分析的樣品中加入一定量的Hg+(一般用氧化gong和硝酸gong)在電解富集待離子的點(diǎn)位下,同時(shí)形成汞齊,掃描溶出后,于較正的電位下,*溶出待測(cè)離子或汞膜,還可以取出電極用濾紙把汞膜擦凈。保證第二次分析時(shí)電極表面仍然為原始狀態(tài),以保證重現(xiàn)性,一般汞離子的濃度是被測(cè)離子濃度的500-1000倍。
  第二種為予鍍汞膜,1.在正于待測(cè)離子電解電位下長(zhǎng)時(shí)間電積汞。如測(cè)cu可在-0.2V長(zhǎng)時(shí)間電積制得汞膜,而防止電積cu,pb,cd,zn的危險(xiǎn),此方法效率低,時(shí)間長(zhǎng)。
  2.在同位鍍汞條件下,電極制作一段時(shí)間后,掃描溶出,在終止電位下再溶出一般時(shí)間,溶出待測(cè)離子,如此富集-溶出,反復(fù)數(shù)次即可得到一層不含待測(cè)離子的汞膜。溶液靜止后取出電極,用水沖洗電極支桿,防止鍍層沖破。鍍汞時(shí)應(yīng)注意電極底下不能有氣泡吸著,否則汞鍍層不勻和電鍍不上,短期不用可把電極泡在1:1硝酸中,用時(shí)洗凈再鍍,長(zhǎng)期不用應(yīng)去汞洗凈,干保存。玻碳鍍金的基本要領(lǐng)與鍍汞相同。
  以上便是今天關(guān)于在同位鍍汞條件下玻碳電極制作一段時(shí)間出現(xiàn)的情況的全部分享了,希望對(duì)大家今后使用本設(shè)備能有幫助。
 

 

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